自從美方對中國半導體實施多次限制之后，國內對于半導體關注就越來越高，尤其在人民日報的呼吁下，大量中企接連投入半導體領域，試圖趕上風口浪尖，同時也為祖國科技發展貢獻自己的一份力。

可不久前的兩個消息，打破了美方在半導體領域的封鎖，引起了巨大的反響，外媒甚至評論稱：這是在討好中國！究竟發生了什么？

據《工商時報》報道，臺積電不久前針對供應鏈需求變化做出了一項重要決定：取消全部的28nm制程設備采購訂單！

要知道此前基于7nm制程產能利用率跌破70%，臺積電已經全面取消了7nm制程工藝光刻機、半導體設備訂單。

甚至還為了降低企業運營開支，將臺灣地區的部分EUV光刻機設備關閉，如今臺積電再次取消全部的28nm制程半導體設備訂單。

這意味著接下來要將精力全部放在2nm制程和3nm制程上了，畢竟英特爾目前就正在利用ASML的NA EUV光刻機流片2nm芯片。

雖說英特爾較比臺積電還有著一定的差距，但此前赴美建廠的結果致使臺積電受到了嚴重影響，不僅損失了大量流動資金，還導致企業在尖端研發強項上失去優勢。

按照目前的局面來說，除了英特爾劍走偏鋒著手研發2nm芯片之外，三星自然也不甘落后展開2nm制程的研發階段。

不過相比于此更重要的是有消息稱三星在4nm制程領域的良率已經逐漸開始逼近臺積電，相信大家還記憶猶新，此前三星的4nm制程和5nm制程良率僅僅只有不到35%。

高通也正是因為三星良率問題導致芯片出現嚴重發熱，從而轉到臺積電代工，如今三星的良率提升，這對于臺積電而言絕對算是一項新的威脅。

由此可見，由于市場的兩大競爭對手接連有著突破，臺積電如今不得不放棄7nm和28nm制程芯片的擴產計劃，在先進制程芯片工藝上投入更多精力與兩大芯片代工巨頭競爭。

而臺積電因為市場趨勢做出這樣子的決策，受到影響最大的必然是ASML，據溫寧克的說法，臺積電的砍單將致使ASML失去40%的訂單。

這對于如今斷供了大陸EUV、DUV光刻機之后的ASML來說，無疑是雪上加霜，雖說這個企業積累了接近3000億人民幣的訂單，但這依舊意味著不小的損失。

不過，ASML在美日荷協議問題上，一直強調出口管制只涉及“最先進”的DUV光刻機，也就是TWINSCAN NXT:2000i和2050i，并不包括1980Di型號。

這款TWINSCAN NXT:1980Di的波長為38nm制程，但基于中芯國際的“SAQP四重曝光技術”，可以實現7nm工藝的量產技術。

并且目前荷蘭的“秘密協議”尚未落地，換個方向去想象，臺積電砍單ASML的訂單，等于ASML短時間內擁有更多的精力去量產中國企業訂單。

某種意義上來說，這對于中企們的擴產有著一定的好處，能夠解決眼前的燃眉之急，較比于拜登政府的態度，完全就是背道而馳。因此外媒評論稱：這是在討好中國，感覺拜登心都碎了！

當然，相比于ASML提供的半導體設備來說，國產28nm制程光刻機也已經迎來了最后階段，對于中企而言才是更重要的好消息。

要知道，目前針對半導體領域14nm及14nm制程以下的芯片量產工藝，均已處于禁令限制清單中，唯一能夠擴產的也就是28nm制程。

而28nm制程以上的芯片工藝能夠滿足市場超過80%的需求，基于國產光刻機突破28nm制程，意味著“中國芯”已經在成熟工藝芯片市場站住了腳跟，不再需要害怕美方“卡脖子”！

并且隨著我國華為、哈工大、上海微電子等機構、企業的研發，目前已經具備了EUV光刻機的三大核心技術，目前高精度也已經陸續達到標準。

不久前，工信部還拉攏中企們組建了一個“中國集成電路標準化技術委員會”，包括了90個中國在半導體領域的杰出企業。

相信在工信部的帶領下，中企們齊頭并進，打破美方乃至LCC EUV聯盟在EUV光刻機上的壟斷封鎖，只會是時間問題！

正如人民日報呼吁的：只有掌握了自主技術，才能更好地服務于國家和人民的需求，促進經濟、社會和文化發展，同時保護國家安全與核心利益。

因此，中國科技保持自主研發的重要性不言而喻，尤其在當前國際競爭加劇的背景下，中國只有進一步提升自主研發能力，促進科技創新和經濟發展，才能保證自身的利益。